Sulfonium, triphényl-, sel avec 2,2,2-trifluoro-1-(sulfométhyl)éthyl tricyclo[3.3.1.13,7]décane-1-carboxylate (1:1) CAS#: 1638216-03-1; ChemWhat Code: 1499492

IdentificationDonnées physiquesSpectra
Route de synthèse (ROS)Sécurité et dangersAutre informations

Identification

Nom du produitSulfonium, triphényl-, sel avec 2,2,2-trifluoro-1-(sulfométhyl)éthyl tricyclo[3.3.1.13,7]décane-1-carboxylate (1:1)
Nom IUPAC2-(adamantane-1-carbonyloxy)-3,3,3-trifluoropropane-1-sulfonate ; triphénylsulfanium
Structure moleculaireStructure Sulfonium, triphényl-, sel avec 2,2,2-trifluoro-1-(sulfométhyl)éthyl tricyclo[3.3.1.13,7]décane-1-carboxylate CAS 1638216-03-1
Numéro de registre CAS 1638216-03-1
Numéro EINECSPas de données disponibles
Numéro MDLPas de données disponibles
Numéro de registre BeilsteinPas de données disponibles
synonymes2-(adamantane-1-carbonyloxy)-3,3,3-trifluoropropane-1-sulfonate ; triphénylsulfonium
2-((adamantane-1-carbonyl)oxy)-3,3,3-trifluoropropane-1-sulfonate de triphénylsulfonium
Formule moléculaireC32H33F3O5S2
Masse moléculaire618.725
InChIInChI=1S/C18H15S.C14H19F3O5S/c1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;15-14(16,17)11(7-23(19,20)21)22-12(18)13-4-8-1-9(5-13)3-10(2-8)6-13/h1-15H;8-11H,1-7H2,(H,19,20,21)/q+1;/p-1
InChI KeyLWCJGPXPEOMYDB-UHFFFAOYSA-M
Canonique SMILESO=C(OC(CS(=O)(=O)[O-])C(F)(F)F)C12CC3CC(CC(C3)C1)C2.c1ccc(S+c2ccccc2)cc1
Renseignements sur les brevets
ID de brevetObjetDate de publication
EP3498694NOUVEAUX DÉRIVÉS DE BENZAMIDE COMME MODULATEURS DE PPAR-GAMMA2019
WO2019 / 126730DERIVES DE CHROMENOPYRIDINE UTILISES COMME INHIBITEURS DE PHOSPHATE KINASE DE PHOSPHATIDYLINOSITOL2019
US2018 / 230157DÉRIVÉS DE PYRROLO [1,2-b] PYRIDAZINE2018
WO2018 / 169373DERIVES DE PYRROLOTRIAZINE COMME INHIBITEUR DE KINASE2018
WO2018 / 203194DERIVES DE DIAZABICYCLOOCTANE COMPRENANT UN GROUPE AMMONIUM EN QUATERIE A UTILISER COMME AGENTS ANTIBACTERIENS2018

Données physiques

lustréePoudre blanche à blanc cassé
SolubilitéPas de données disponibles
Point de rupturePas de données disponibles
Indice de réfractionPas de données disponibles
SensibilitéPas de données disponibles
Point de fusion, °C Solvant (point de fusion)
64hexane
55 – 57l'éthanol
62 – 63aq. éthanol
63 – 64benzène, éther de pétrole
Point d'ébullition, ° C
251
250 – 252
Densité, g · cm-3Température de référence, ° CTempérature de mesure, ° C
1.14425
1.24- 190
1.24
Description (association (MCS))Solvant (Association (MCS))Température (Association (MCS)), ° CPartenaire (association (MCS))
Constante de stabilité du complexe avec…CCl424.94-Fluorophenol
Constante de stabilité du complexe avec… aq. HNO325AgNO3
Enthalpie d'associationacétonitrile25iode
Spectre RMN du complexeCDCl3Cu (2,4-dichloro-benzoate) 2

Spectra

Description (spectroscopie RMN)Noyau (spectroscopie RMN)Solvants (spectroscopie RMN)Température (spectroscopie RMN), ° C Fréquence (spectroscopie RMN), MHz
Déplacements chimiques, spectre1Hchloroforme-d125300
Déplacements chimiques, spectre13Cchloroforme-d12575
3-Aminopyridine No CAS: 462-08-8 RMN3-Aminopyridine CAS RMN 462-08-8
Description (spectroscopie IR)Solvant (spectroscopie IR)Température (spectroscopie IR), ° C
Groupesbromure de potassium 27
SpectreCCl414.85 – 54.85
3-Aminopyridine N ° CAS: 462-08-8 IR3-Aminopyridine N ° CAS: 462-08-8 IR
Description (spectroscopie UV / VIS)Solvant (spectroscopie UV / VIS)Commentaire (spectroscopie UV / VIS)Absorption maximale (UV / VIS), nmExt./Abs. Coefficient, l · mol-1cm-1
Maxima d'absorptionH2O, H2SO4Ratio de solvants: 66percent2585740
Maxima d'absorptionH2O, NaOHRapport de solvants: 0.1N232, 2908600, 3120

Route de synthèse (ROS)

Voie de synthèse (ROS) de 3-Aminopyridine CAS 462-08-8
ConditionsRendement
Avec de l'hydrogène dans de l'acétate d'éthyle à 20 ℃; sous 7600.51 Torr; pour 6h; Autoclave;99 %
Avec 0.2C27H36N2 * Pt; hydrogène Dans le tétrahydrofurane à 60 ℃; sous 3000.3 Torr; pour 5h; réaction chimiosélective;99 %
Avec de l'hydrogène dans de l'acétate d'éthyle sous 760.051 Torr; pour 2h; Chauffage; Réacteur à écoulement; Chimie verte;99 %
Avec de l'hydrogène; triéthylamine dans l'éthanol; l'eau à 110 ℃; sous 30003 Torr; pour 24h; Autoclave;98 %
Avec de l'hydrogène Dans 2-méthyltétrahydrofurane; l'eau à 40 ℃; sous 15001.5 Torr; pour 24h; réaction chimiosélective;98 %
Avec du tétrahydroborate de sodium Dans l'eau à 20 ℃; pour 1.5h; réaction chimiosélective;

Procédure expérimentale
Procédure générale: dans une expérience typique, 0.5mmol de nitroarène et 0.002g (2mol%) NiNPs / DNA ont été ajoutés à de l'eau 2mL puis agités pour 2-3min pour un mélange complet. Par la suite, 1mmol de NaBH4 a été ajouté au mélange réactionnel sous agitation magnétique à température ambiante. L'ampleur de la réaction a été contrôlée par chromatographie sur couche mince. La reproductibilité des résultats a été vérifiée en répétant les analyses au moins trois fois et s'est révélée être dans les limites acceptables (± 3%). Une fois la réaction terminée, le mélange réactionnel a été dilué avec de l'acétate d'éthyle et le catalyseur a été récupéré par centrifugation. Les fractions organiques combinées ont été séchées sur Na2SO4 et évaporées sous pression réduite. Le produit brut a été purifié par chromatographie sur colonne sur gel de silice avec un mélange d'acétate d'éthyle et de n-hexane comme éluant, et le rapport de l'acétate d'éthyle et du n-hexane dépendait de la structure des produits. La structure des produits isolés a été vérifiée par 1H RMN.
97 %

Sécurité et dangers

Mentions de danger SGHNon classés

Autre informations

TransportsNONH pour tous les modes de transport
À la température ambiante et à l'abri de la lumière
code SH
Stockage À la température ambiante et à l'abri de la lumière
Field Intelligence2 ans
Prix ​​du marchéUSD
Ressemblance à la drogue
Composant des règles Lipinski
Masse moléculaire94.116
logP- 0.047
HBA2
HBD1
Règles Lipinski correspondantes4
Composant de règles Veber
Surface polaire (PSA)38.91
Lien rotatif (RotB)0
Règles Veber correspondantes2
Motif d'utilisation
utilisé comme générateur de photoacide (PAG) dans les systèmes de photorésine chimiquement amplifiés pour la lithographie avancée des semi-conducteurs.
Lorsqu'il est exposé à la lumière UV ou ultraviolette profonde (DUV), il génère des acides forts qui initient des réactions de déprotection catalytique dans les matériaux de photorésine, permettant la formation de motifs à haute résolution.

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