Triphénylsulfonium (3-hydroxytricyclo[3.3.1.13,7]décane-1-méthoxycarbonyl)difluorométhane sulfonate CAS#: 912290-04-1; ChemWhat Code: 1491734
Identification
| Nom du produit | sulfonate de triphénylsulfonium (3-hydroxytricyclo[3.3.1.13,7]décane-1-méthoxycarbonyl)difluorométhane |
| Nom IUPAC | 1,1-difluoro-2-[(3-hydroxy-1-adamantyl)methoxy]-2-oxoethanesulfonate;triphenylsulfanium |
| Structure moleculaire | ![Structure du sulfonate de triphénylsulfonium (3-hydroxytricyclo[3.3.1.13,7]décane-1-méthoxycarbonyl)difluorométhane CAS 912290-04-1](https://www.chemwhat.com/wp-content/uploads/2026/02/Structure-of-Triphenylsulfonium-3-hydroxytricyclo3.3.1.137decane-1-methoxycarbonyldifluoromethane-sulfonate-CAS-912290-04-1.png) |
| Numéro de registre CAS | 912290-04-1 |
| Numéro EINECS | Pas de données disponibles |
| Numéro MDL | Pas de données disponibles |
| Numéro de registre Beilstein | Pas de données disponibles |
| synonymes | sel de triphénylsulfonium 1-((3-hydroxy-1-adamantyl)méthoxycarbonyl)difluorométhanesulfonate de triphénylsulfonium 1-((3-hydroxyadamantane-1-ylméthoxycarbonyl)méthanesulfonate de triphénylsulfonium |
| Formule moléculaire | C31H32F2O6S2 |
| Masse moléculaire | 602.7 |
| InChI | InChI=1S/C18H15S.C13H18F2O6S/c1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;14-13(15,22(18,19)20)10(16)21-7-11-2-8-1-9(3-11)5-12(17,4-8)6-11/h1-15H;8-9,17H,1-7H2,(H,18,19,20)/q+1;/p-1 |
| InChI Key | MMTQYTFKDNOQOV-UHFFFAOYSA-M |
| Canonique SMILES | C1C2CC3(CC1CC(C2)(C3)O)COC(=O)C(F)(F)S(=O)(=O)[O-].C1=CC=C(C=C1)[S+](C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3 |
| Renseignements sur les brevets | ||
| ID de brevet | Objet | Date de publication |
| US2016 / 168115 | SEL, GÉNÉRATEUR D'ACIDE, COMPOSITION DE LA RÉSERVE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU MOTIF DE RÉSERVE | 2016 |
| JP2018 / 145179 | SEL, GÉNÉRATEUR D'ACIDE, COMPOSITION DE LA RÉSINE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU MOTIF DE RÉSINE | 2018 |
Données physiques
| lustrée | Poudre blanche à blanc cassé |
| Solubilité | Pas de données disponibles |
| Point de rupture | Pas de données disponibles |
| Indice de réfraction | Pas de données disponibles |
| Sensibilité | Pas de données disponibles |
| Température (solubilité (MCS)), ° C | Solvant (Solubilité (MCS)) | Commentaire (solubilité (MCS)) |
| insoluble à 1 % dans l'acétate de monométhyléther de propylèneglycol ; monométhyléther de propylèneglycol ; 2-heptanone ; acétate de n-butyle | ||
| 23 | acétate d'éthyle | Solubilité : 2 pour cent en poids |
Spectra
| Description (spectroscopie RMN) | Noyau (spectroscopie RMN) | Solvants (spectroscopie RMN) | Fréquence (spectroscopie RMN), MHz | Texte original (spectroscopie RMN) |
| Déplacements chimiques, spectre | 1H | diméthylsulfoxyde-d6 | 400 | |
| 1H | diméthylsulfoxyde-d6 | 1Données RMN du proton de B2 (diméthylsulfoxyde-d6, Étalon interne : tétraméthylsilane) : δ (ppm) 1.38-1.51 (m, 12H) ; 2.07 (s, 2H) ; 3.85 (s, 2H) ; 4.41 (s, 1H) ; 7.75-7.89 (m, 15H) |
| Description (spectrométrie de masse) | Commentaire (spectrométrie de masse) | Courant |
| ESI (ionisation électrospray), LCMS (spectrométrie de masse par chromatographie liquide) | Pic moléculaire | 263.07 m / z |
| ESI (ionisation électrospray), LCMS (spectrométrie de masse par chromatographie liquide) | Pic moléculaire | 339.10 m / z |
| Description (spectroscopie UV / VIS) |
| Spectre |
Route de synthèse (ROS)
![Voie de synthèse (ROS) du sulfonate de triphénylsulfonium (3-hydroxytricyclo[3.3.1.13,7]décane-1-méthoxycarbonyl)difluorométhane, CAS n° 912290-04-1](https://www.chemwhat.com/wp-content/uploads/2026/02/Route-of-Synthesis-ROS-of-Triphenylsulfonium-3-hydroxytricyclo3.3.1.137decane-1-methoxycarbonyldifluoromethane-sulfonate-CAS-912290-04-1.png)
| Conditions | Rendement |
| Dans de l'hydroxyde de lithium monohydraté à 20℃ ; pendant 2 h ; | 94.8 % |
| Dans de l'hydroxyde de lithium monohydraté ; acétonitrile à 23℃ ; pendant 15 h ; | 92 % |
| Dans du chloroforme ; hydroxyde de lithium monohydraté pendant 15 h ; | 23 % |
Sécurité et dangers
| Pictogramme (s) |   |
| Signal | danger |
| Mentions de danger SGH | H301 (100%): Toxique en cas d'ingestion. [Danger Toxicité aiguë, par voie orale] H314 (94.7%): Provoque des brûlures de la peau et des lésions oculaires graves [Danger de corrosion / irritation de la peau] H318 (100%): Provoque des lésions oculaires graves [Danger Lésions oculaires graves / irritation oculaire] Les informations peuvent varier entre les notifications en fonction des impuretés, des additifs et d'autres facteurs. |
| Codes de déclaration de précaution | P260, P264, P264+P265, P270, P280, P301+P316, P301+P330+P331, P302+P361+P354, P304+P340, P305+P354+P338, P316, P317, P321, P330, P363, P405 et P501 (L’énoncé correspondant à chaque code P est disponible à l’adresse suivante: Classification SGH page.) |
Autre informations
| Transports | NONH pour tous les modes de transport |
| À la température ambiante et à l'abri de la lumière | |
| code SH | Pas de données disponibles |
| Stockage | À la température ambiante et à l'abri de la lumière |
| Field Intelligence | 2 ans |
| Prix du marché | USD |
| Ressemblance à la drogue | |
| Composant des règles Lipinski | |
| Masse moléculaire | 602.72 |
| logP | 6.588 |
| HBA | 6 |
| HBD | 1 |
| Règles Lipinski correspondantes | 2 |
| Composant de règles Veber | |
| Surface polaire (PSA) | 112.11 |
| Lien rotatif (RotB) | 8 |
| Règles Veber correspondantes | 2 |
| Motif d'utilisation |
| Fonction principale : Générateur de photoacide (PAG) |
| Elle absorbe la lumière et subit un clivage photolytique |
| Produit un acide fort (acide difluorométhanesulfonique) L'acide ainsi généré peut catalyser des réactions d'amplification chimique ou initier une polymérisation cationique ultérieure. Il s'agit d'un additif fonctionnel essentiel dans les systèmes de réticulation des photorésines et des photopolymères cationiques. II. Principaux domaines d'application 1. Résines photosensibles pour semi-conducteurs (résines photosensibles chimiquement amplifiées, CAR) Applicable à: Systèmes de lithographie i-line, KrF et ArF résines photosensibles à amplification chimique haute résolution Fonctions principales: Génération d'acide lors de l'exposition Catalyse les réactions de déprotection Amplifie les effets d'exposition → améliore la résolution, la sensibilité et le contrôle des dimensions critiques/de la rugosité des bords de ligne (CD/LER) Avantages de la structure adamantyle : Assure une stabilité thermique élevée Réduit la diffusion de l'acide → améliore la résolution et la rugosité des bords des lignes Améliore les performances optiques et la stabilité de formulation des résines photosensibles Systèmes de photopolymérisation cationiques Utilisé dans le durcissement cationique induit par UV des résines époxy et des matériaux vinyl-éther. Irradiation UV → génération d'acide → initie la polymérisation par ouverture de cycle cationique ou la réticulation Les applications comprennent: Revêtements et encres durcissables aux UV Matériaux d'encapsulation électronique Couches isolantes photostructurables (par exemple, PSPI, PI) |
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